不銹鋼真空反應罐，結(jié)構(gòu)合理，堅固耐用；真空管路采用不銹鋼連節(jié)，方便維護及保養(yǎng)。
1.2米大直徑真空反應罐，單次鍍膜數(shù)量多, 能滿足大型工件的鍍膜需求。
側(cè)開式門設計便于取放產(chǎn)品與腔體清潔等維護作業(yè)。
反應罐內(nèi)置轉(zhuǎn)盤機構(gòu)使產(chǎn)品在鍍膜過程中轉(zhuǎn)動，鍍層更均勻。
使用數(shù)位LED真空計顯示工作真空度。
操作簡易，可依實際需求變換自動 /手動操作模式。
紅外線加熱圈，加溫速度快。
采用高精度溫控裝置多段控溫，溫控精確。
定時加熱、超溫報警和自動停止加熱等保護功能
自診功能和各種故障報警。
運用范圍
真空氣相沉積設備是一種用于電子產(chǎn)品防水保護的鍍膜設備。工作時把含有構(gòu)成薄膜元素的化合物（長鏈性高分子材料，一般為派瑞林Parylene）、單質(zhì)氣體經(jīng)過升華、熱解后進入放置產(chǎn)品的真空反應室，借助空間氣相化學反應, 在產(chǎn)品表面上沉積生成0.1-100um的厚度均勻，無應力、優(yōu)異的電絕緣性和防護性、防潮、防霉、防腐、防鹽霧的薄膜涂層。
廣泛應用于：航空航天、電路板、LED 、磁性材料、傳感器、硅橡膠、密封件、醫(yī)療器械、珍貴文物等領(lǐng)域產(chǎn)品的防水封裝與保護工藝中。
產(chǎn)品規(guī)格
設備總尺寸 ( 寬度 , 深度 , 高度 ) / 重量 | 3000 mm x 1420 mm x 1620mm |
反應罐體外徑 | ?1210 mm x1240 mm |
反應罐罐口尺寸 | 890 mm x1200 mm |
輸入電壓 | 三相 380 VAC / 50 Hz |
設備最大功率 | 15 Kw |
溫控分區(qū) | 6 |
分解爐溫控范圍 | 室溫至700℃ |
升華爐溫控范圍 | 室溫到150℃ |
原料門溫控范圍 | 室溫到250℃ |
制冷壓縮機功率 | 1000 W |
制冷量 | 887 W |
最低制冷溫度 | -90℃ |
真空泵型號 | 2RH 090C |
真空泵抽氣速率 | 90 m3 |
最大真空壓力 | ≤ 5 Pa |
真空泵電機功率 | 3.7 KW (三相380VAC) |
真空泵電機轉(zhuǎn)速 | 1440 R/Min |
控制系統(tǒng) | 10 ”人機界面，PLC 控制 |
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